勻膠旋涂?jī)xM-SPIN 200是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂?jī)x適用于直徑大為8英寸的晶圓片，或大為6英寸 x 6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動(dòng)工作，分配移動(dòng)托盤(pán)，可定義數(shù)量。該勻膠旋涂?jī)x配備了頂蓋的聯(lián)鎖機(jī)制，和可視化全圖形觸摸面板。M-Spin 200勻膠旋涂?jī)x包含一個(gè)內(nèi)置模塊，該模塊連接到柔性電纜，外接到一個(gè)19英寸外部控件上。

勻膠旋涂?jī)xM-SPIN 200產(chǎn)品參數(shù)：

可處理襯底尺寸：直徑大為8英寸的晶圓片，或大為6英寸 x 6英寸的襯底；

旋轉(zhuǎn)速度：達(dá)9,000 rpm（以1 rpm步長(zhǎng)可調(diào)）；

固定晶圓片或襯底的裝置：真空托盤(pán)；

處理時(shí)間：（1-999秒，可在1秒內(nèi)調(diào)整）；

加速度：1-5,000rmp/sec；

其他參數(shù)：20個(gè)程序段，每個(gè)40步

設(shè)備尺寸：約 480mmx 360mm x 416mm(不帶蓋子)

控制器尺寸：約 145mmx 100mm x 120mm

產(chǎn)品選配件：

適用各種尺寸大小的托盤(pán)

分配臂

泵

主營(yíng)產(chǎn)品：

Laurell勻膠機(jī)     

Harrick等離子清洗機(jī)

Thetametrisis膜厚儀  

Microxact探針臺(tái)

ALD原子層沉積系統(tǒng)

TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻機(jī)       

Novascan紫外臭氧清洗機(jī)

Nilt納米壓印機(jī)

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

Annealsys高溫退火爐

Kinematic程序剪切儀

Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)     

Wabash/Carver自動(dòng)壓片機(jī)