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美國KemLab負(fù)性光刻膠 PKP-308PI 具有改進(jìn)的分辨率、附著力、耐蝕刻性、低針孔密度，是負(fù)性光刻膠中綜合性能最佳的選擇。在使用過程中無需對(duì)光刻膠進(jìn)行膜過濾。可實(shí)現(xiàn)微米級(jí)別的分辨率，且在生產(chǎn)中光刻膠工藝能保持高度可重復(fù)性。

美國KemLab負(fù)性光刻膠 HARE SOTM是一種基于環(huán)氧樹脂的負(fù)型光阻，專為聚合物MEMS、微流體、微機(jī)械加工以及其他微電子應(yīng)用而設(shè)計(jì)。

美國KemLab正性光刻膠 KLT 5300是一種專為i-Line、g-Line和寬帶應(yīng)用優(yōu)化的正型光阻。KLT 5300具有高靈敏度和高吞吐量，適用于集成電路制造。

KemLab 正性光刻膠 KLT 6000 ，適用于 i-Line、寬帶或 g-Line 曝光。

EM Resist SU-8負(fù)性抗蝕劑產(chǎn)品，非常適合半導(dǎo)體應(yīng)用。我們的產(chǎn)品有各種形式和厚度范圍。 典型的SU-8過程包括以下步驟： 基板準(zhǔn)備 旋涂 松弛時(shí)間以提高表面均勻度 軟烤 曝光后烘烤 發(fā)展歷程 沖洗并干燥 可選硬烤

公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料，熱壓型納米壓印膠、熱塑型納米壓印膠、紫外光固化型納米壓印膠、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術(shù)相關(guān)的化學(xué)藥品，如模板防粘劑、基片增粘劑等。